硅片制程中mark检测

项目简述

针对与硅片对比度极差的较浅镭雕mark点
采用专用订制波长uv光源,呈现极佳对比度
环形光源,以及特殊订制四边可调光源
配合高亮频闪控制器,实现与相机精确同步

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